1. 对企业使用MPW（多项目晶圆）进行产品研发流片，按照流片费用的20%给予每年最高200万元支持；对IC设计企业开展 处理器芯片、通信芯片、感知芯片、功率半导体、存储器芯片、 显示驱动芯片等全掩膜（Full Mask）首轮工程产品流片，按照流 片费用的30%给予每年最高1000万元支持。（发改局）

2. 对购买IP（知识产权）、EDA（电子设计自动化）开展研发 的集成电路企业，按照IP、EDA购买费的20%给予每年最高不超过200万元的支持；对从事集成电路自主安全可控EDA工具 研发的企业，按照EDA研发费用加计扣除部分的50%，给予每 年最高不超过1000万元的支持。（发改局）

1. 支持企业流片申报条件：

（1）企业进行MPW（多项目晶圆）流片，“MPW 流片”是指将 多个具有相同工艺的集成电路设计放在同一晶圆上流片，按面积 分摊流片费用，以降低开发成本和新产品开发风险。

（2）企业进行首轮工程产品流片，“首轮工程产品流片”是指集 成电路企业将其研发的新型号芯片与芯片制造企业（或全资子公 司）、代流片企业开展产品量产前的全掩膜板（FullMask）流片， 并就对应型号芯片首次签订流片合同，合同所载晶圆数量不得高 于25片，产品已获得集成电路布图设计登记证书。流片费用包 括：掩膜版制作费、晶圆购置费、制造端IP授权费、测试加工 费。

2. 支持购买设计工具申报条件：

（1）企业直接购买集成电路IP（知识产权）、EDA（电子设计 自动化）用于研发。

（2）企业购买 IP（不包含委托技术服务）的，应为授权协议中 IP 最终被许可方。

（3）企业购买 EDA 的，应与主流 EDA 供应商签订最终用户使 用证明。

（4）申报 EDA 研发费用补贴的企业应从事集成电路自主安全可 控 EDA 工具研发。

（5）交易主体应为非关联企业。

（6）“IP”是指供应方提供的已形成知识产权并完成权属登记的， 可直接用于二次开发的商品。“委托技术服务”是指委托方提出技 术需求，由供应方研发，之后就该项技术形成知识产权，权属由 双方自行约定。

（暂无）

已获得东湖高新区“一事一议”支持的企业，原则上不再享受本政策。实施过程中，与国家法律法规和省市有关规定冲突的，以国家法律法规和省市有关规定为准。

（暂无）

（暂无）

武汉东湖新技术开发区管理委员会关于印发东湖高新区关于支持建设世界级光电子信息先进制造业集群的实施方案的通知（武新管〔2025〕5 号）

东湖高新区发改局：027-67880342